湖北日报讯（记者李默、李仁熙）12月9日，湖北幸福电子材料股份有限公司公告称，将以4626.78万元收购湖北三峡实验室重大科技成果“光刻胶用光引发剂制备专有技术及专有实验设备”。当半导体领域的这一“瓶颈”技术到达市场时，将打破国外公司对该材料的长期垄断。 湖北三峡实验室光引发剂项目研发负责人介绍，此次转移产生的g/i线光刻胶基础光引发剂技术主要应用于领域和显示领域。 芯片制造需要数百种设备和材料，其中光刻机和光刻胶通常被称为“卡住”产品。光引发剂对灵敏度和分辨率起着决定性的作用光刻胶的溶液。 “目前，在国产芯片和显示器领域，光刻胶的光引发剂几乎全部从美国、日本和韩国进口。”该负责人表示。 “这是市场需求驱动的研发变革。公司提出问题，实验室回答。”湖北三峡实验室主任迟如安透露，微电子新材料是三峡实验室的研究方向之一。近年来，不少半导体客户表示，由于限购、光引发剂减少等原因，国产光刻胶多次“卡壳”，给国内半导体产业链生产带来巨大压力。 主营芯片蚀刻用电子级磷酸、电子级硫酸等产品的幸福电子有望进军光引发剂行业，但研发从0到1的风险已成一个问题。 “当研发失败时，公司会忽视巨大的投资和时间成本。”幸福电子总工程师何兆波表示，公司设想建设三个三峡实验室。 幸福电子提出委托研发意向后，中国三峡实验室立即决定开展光引发剂关键技术研究。 “针对产业需求进行研发，是湖北实验室的本质和使命。”池阮说道。 经过三年多的研发，今年5月，上海一家领先的光刻胶企业给三峡实验室回复：“送来的样品各项指标达到了国外进口厂家的水平。”随后，中试样品在多家光刻胶企业通过了首轮验证，相关技术终于具备了产业化的条件。 池阮说该成果进入产业化初期。投产后，将是湖北第一条光刻胶光引发剂生产线，将对我国光刻胶行业的发展起到积极作用。